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半导体芯片生产可以说是制造业的皇冠,而光刻机就是皇冠上的明珠,EUV光刻机则是明珠之光,其设计之复杂远超一般工业设备。 目前EUV光刻机只有荷兰ASML公司能够生产,Q3季度他们交付了7台EUV光
国内发展半导体产业的决心已经无需多言,目前国内最薄弱的领域还是芯片制造,而在这方面我们又缺少尖端的半导体生产设备,尤其是光刻技术,这是半导体芯片生产中的核心工艺。 在2019中国集成电
AI、5G应用推动芯片微缩化,要实现5nm、3nm等先进制程,意味着需要更新颖的技术支援以进行加工制造,半导体设备商遂陆续推出新一代方案。AI、5G应用推动晶片微缩化,要实现5nm、3nm等先进制程,
在半导体制造中,光刻是最重要的一个环节,同时也是决定半导体工艺水平的关键,高端芯片要光刻多次,占到了制造成本的三分之一,目前全球的光刻机主要垄断在荷兰ASML、日本佳能、尼康手里。 国
半导体制造过程中最复杂也是最难的步骤就是光刻,光刻机也因此成为最重要的半导体制造设备。在7nm制程的较量中,台积电之所以能够领先,一个很重要的原因就是EUV技术,在半导体制造的工艺中,这
随着5G的发展,以及近期的贸易摩擦,使我们逐渐意识到微电子集成电路技术对世界的各种科技电子产品越来越应用广泛了,一个国家的发展越来越离不开高端芯片了,一个国家越是发展得越快对高端芯片
北京清芯华创投资公司投委会主席陈大同博士日前在报告中谈到了中国半导体产业与世界一流水平的差距,其中封装方面差距最小,最快5年追上,半导体制造上则需要10-15年,这部分也是国产最弱的一部
半导体是国内目前大力发展的产业,也是国内公司对美国依赖最多的行业之一。在设计、制造及封装三个环节中,国内公司在封测行业发展的还不错,江苏长电科技是全球第三大封测公司,TOP10厂商中有三
本周,关于光刻机“一哥”ASML(荷兰阿斯麦)机密文件被员工盗走的消息甚嚣尘上,对此ASML表示确有此事,但淡化了影响。 荷兰媒体最早披露了上述事件,并称涉事者为中国雇员。 ASML
3月13日消息,据彭博社报道,一家名为Lasertec的日本公司,在芯片制造商增加每一代芯片晶体管数量方面默默发挥着重要作用,它是世界上唯一一家为极紫外光刻(EUV光刻)制造测试设备的公司。 EUV光
2017年出货11台,2018年出货18台,ASML(阿斯麦)上周表示,计划在2019年出货30台EUV光刻机。 目前,ASML占有全球光刻机市场70%的份额,远远领先尼康。更重要的是,仅荷兰ASML有能力制造和出货
本文经超能网授权转载,其它媒体转载请经超能网同意。 就像提到国产飞机必有人提中国发动机不行一样,提到半导体也有人一直在提中国光刻机不行的问题,而全球的光刻机目前垄断在几家公司手中,
本文经爱活网授权转载,其它媒体转载请经爱活网同意 在2年前尼康向ASML以及其合作伙伴蔡司发起法律诉讼,指二者在未经尼康允许将微影技术用于旗下光刻机,扯皮两年多后,三方总算达成和解。 在
北京时间12月3日晚间消息,全球领先的光刻机厂商ASML(阿斯麦)今日宣布,由于该公司的电子零部件供应商Prodrive发生火灾,导致ASML明年年初的部分产品供货日期被推迟。 ASML是全球许多大型计算机
昨天,又一篇文章刷爆了半导体人的朋友圈。 据军报记者成都报道,国家重大科研装备研制项目“超分辨光刻装备研制”29日通过验收,这是我国成功研制出的世界首台分辨力最高紫外超分辨
最近“我国成功研制出的世界首台分辨力最高紫外超分辨光刻装备”的新闻刷屏了。有些人欢欣鼓舞,有些人不屑一顾。那么这个装备到底实力如何,牛到底牛在哪儿? 先回答大家最关心的两
11月30日消息,据媒体报道,由中国科学院光电技术研究所主导的项目“超分辨光刻装备研制”29日通过验收。 该光刻机光刻分辨力达到22nm,结合双重曝光技术后,未来还可用于制造10nm级
本文经超能网授权转载,其它媒体转载请经超能网同意 随着三星宣布7nm EUV工艺的量产,2018年EUV光刻工艺终于商业化了,这是EUV工艺研发三十年来的一个里程碑。不过EUV工艺要想大规模量产还有很
近日,为了招聘人才,ASML公司制作了全世界最小的招聘广告,并获得了吉尼斯世界记录。 这个广告长33.27微米,宽7.76微米,面积为258平方微米,比一根头发还小。上面刻有ASML宣传语“To tr
中国集成电路制造年会近日邀请到了光刻机霸主ASML(阿斯麦)中国区总裁沈波参加,他出面解答了一些媒体关心的话题。 尽管UMC(联电)和Globalfoundries(格罗方德,格芯)先后宣布放弃7nm制程及
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