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打破日本垄断!三星首次采用本土EUV光刻胶
据ETNews消息,三星已经将韩国本土公司研发的EUV光刻胶(EUV PR),用于一条半导体工艺线生产。
据悉,在日本限制出口EUV光刻胶后,韩国的东进世美肯公司就开始研发EUV光刻胶,并在去年通过了三星电子的可靠性认证,在不到一年的时间里,就将其应用到生产线。
不过,一条生产线仅是三星整个产品线中的一小部分,但是这是完全不依赖进口产品的生产线,因此具有特殊的意义。
由于需要考虑海外供应商之间的关系,目前尚不清楚三星是否会将东进世美肯EUV光刻胶用于更多的生产线。
据了解,光刻胶是半导体曝光工艺中的关键材料,它应用于芯片生产上。
当用半导体曝光设备照射光时,会发生化学反应并改变物理性质,通过用显影剂冲洗掉PR来绘制微电路,只留下必要的部分。
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