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快科技10月25日消息，据华中科技大学官微消息，近日，该校武汉光电国家研究中心团队，在国内率先攻克合成光刻胶所需的原料和配方，助推我国芯片制造关键原材料突破瓶颈。 据介绍，其研发的T150
快科技10月15日消息，据“中国光谷”公众号，日前，武汉太紫微光电科技有限公司（以下简称“太紫微公司”）推出的T150 A光刻胶产品，通过半导体工艺量产验证。 T150 A光刻
快科技4月2日消息，据湖北九峰山实验室官微消息，九峰山实验室、华中科技大学组成联合研究团队，支持华中科技大学团队突破“双非离子型光酸协同增强响应的化学放大光刻胶”技术。 据
11月14日消息，虽然目前美日荷均出台了政策，限制先进半导体设备的对华出口，但是中国进口的半导体设备金额仍在快速增长。 根据日经新闻报道，分析中国海关的数据显示，今年三季度（7-9月）中国
快科技11月6日消息，荷兰光刻机巨头阿斯麦（ASML）表示，自家在中国市场明年业务非常乐观。 ASML中国区总裁沈波强调，今年阿斯麦中国的业务增长很快，预期全年中国占阿斯麦全球的营收会超过20%
ASML已经获得荷兰官方的允许，在今年年底前向中国客户出口其部分先进工具。 按照ASML的说法，在2023年的剩余时间里，ASML将能继续出货其NXT:2000i和更先进的DUV型号的产品，这些产品从9月1日起
快科技7月24日消息，据日本媒体报道称，从今天开始，日本实施尖端半导体出口管制。 报道指出，除美国、韩国等42个国家及地区外，23个品类等出口时每次都需要获得经产相许可，此前原则上无需获得
快科技6月27日，EUV光刻当前是半导体工艺中最先进的技术，7nm以下工艺都离不开，日本近年来也希望重新掌握先进工艺，不仅成立了Rapidus公司研发2nm工艺，日前更是突然收购了JSR公司，后者是全球
快科技4月10日消息，南大广电在互动平台表示，该公司自主研发的高端ArF光刻胶已经通过了客户认证，并少量销售。 南大光电表示，公司已有两款ArF光刻胶产品分别在下游客户存储芯片50nm和逻辑芯片
除了光刻机之外，先进半导体工艺还依赖光刻胶，这方面的供应也主要是靠美日等公司，如今国产光刻胶已经在部分领域取得突破，晶瑞电材日前透露他们的光刻胶已经可以用于0.25-0.13um工艺，也就是2
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