随着半导体芯片功能、性能提升，设计难度也越来越高，EDA电子设计软件成为关键，被称为“芯片产业皇冠上的明珠”，此前这个领域主要是美国三大EDA厂商垄断，华为联合多家国内公司已经
今年3月8日，荷兰方面，计划对半导体技术出口实施新的管制，这些管制措施将在今天夏天之前开始实施。 3月9日上午，荷兰光刻机巨头阿斯麦（ASML）发布声明表示，ASML预计必须申请许可证方可出口
早前，SPIE 高级光刻会议隆重举行，应用材料公司在会议上宣布了他们的 Sculpta 图案成形工具，这在媒体中引起狂呼我，有人甚至以为ASML的EUV终于迎来了对手。 但在本文作者Scotten Jones看来，
对于ASML光刻机接下来怎么出口的问题，现在官方终于给出了答案。 ASML在最新的声明中指出，这些新的出口管制措施侧重于先进的芯片制造技术，包括最先进的沉积设备和浸润式光刻系统。 ASML强调
据证券时报，3月9日上午，荷兰光刻机巨头阿斯麦（ASML）发布声明表示，ASML预计必须申请许可证方可出口DUV设备。 同时公司还表示“新的出口管制措施并不针对所有浸润式光刻系统，先进程度
ASML 的 EUV 光刻工具很贵。每个 EUV 工具现在接近 1.7 亿美元，但您还是将其中的许多工具用于领先的半导体工厂。未来，每个 High-NA EUV 工具的成本将超过 3.5 亿美元。 此外，这些晶圆厂还需
众所周知，ASML的光刻机独步天下，无论是精度和分辨率，还是产出率和稳定性，都是其他厂商望尘莫及的。但是回望光刻机超过半个世纪的历史，无论是接触式光刻机还是步进扫描式光刻机，无一不需要
Intel当前的12代、13代酷睿使用的是Intel 7工艺，今年底的14代酷睿Meteor Lake还会首发Intel 4工艺，这也是Intel首次大规模使用EUV光刻机。 EUV光刻机虽然先进，但是成本也高，而且高端工艺甚至
随着半导体工艺进入到5nm节点以内，对EUV光刻机的需求也不断增长，目前全球只有ASML一家公司能够生产EUV光刻机，今年的出货量还会进一步提升。 当然，EUV这样的光刻机主要用于先进工艺，所以全
三星电子已开始开发先进的极端紫外线（EUV）pellicle，以缩小与制造竞争对手台积电的市场份额差距。 该公司的半导体研究所最近发布了一份招聘通知，以开发一种满足92%的EUV透射率的pellicle。该
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