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快科技3月5日消息,Intel发布了一条特殊的开箱视频,堪称史上最贵:他们从ASML拿到的全球第一台高NA EUV光刻机,已经开始在美国俄勒冈州希尔斯伯勒附近的工厂内安装了。 这台型号为Twinscan EX
快科技2月17日消息,ASML已经向Intel交付第一台高NA EUV极紫外光刻机,将用于2nm工艺以下芯片的制造,台积电、三星未来也会陆续接收,可直达1nm工艺左右。 那么之后呢?消息称,ASML正在研究下
近日,全球光刻机大厂ASML首次在其荷兰总部向媒体公开展示了最新一代的High NA EUV光刻机。 除了已经率先获得全球首台High NA EUV光刻机的英特尔之外,台积电和三星订购High NA EUV预计最快202
快科技2月8日消息,Intel已于日前接受了ASML的第一台新一代高NA EUV光刻机,但是台积电一直不为所动,可能要到1nm工艺时代才会跟进。 Intel计划将高NA EUV光刻机用于Intel 1
经过十年的研发,ASML 于 2023 年 12 月正式向英特尔交付了首个High NA(高数值孔径)EUV 光刻系统——TWINSCAN EXE:5000的首批模块, 代表着尖端芯片制造向前迈出了重要一步。 近日
快科技1月24日消息,荷兰光刻机巨头ASML(阿斯麦)今天发布了2023年第四季度及全年财报,业绩好得令人羡慕。 2023年第四季度,ASML净销售额72亿欧元(¥561.0亿),高于预期,毛利率51.4%,净利润
快科技1月7日消息,Intel官方宣布,位于俄勒冈州的晶圆厂已经收到ASML发货的全球第一台高NA(数值孔径) EUV极紫外光刻机,型号为“Twinscan EXE:5000”,它将帮助Intel继续推进摩尔定律
快科技12月22日消息,据媒体报道,荷兰半导体设备制造巨头阿斯麦(ASML)确认,向英特尔交付首台高数值孔径(NA)的极紫外(EUV)光刻系统。 数值孔径是用来衡量光学系统能够收集的光的角度范围
快科技12月21日消息,集邦咨询的报告显示,ASML阿斯麦将在2024年生产最多10台新一代高NA(数值孔径) EUV极紫外光刻机,其中Intel就定了多达6台。 同时,三星星也在积极角逐新光刻机,台积
10月14日消息,光刻机大厂佳能(Canon)公司近日通过新闻稿宣布,其已经开始销售基于“纳米印刷”(Nanoprinted lithography)技术的芯片生产设备 FPA-1200NZ2C。佳能表示,该设备采用