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快科技2月26日消息,美光宣布,基于最新1γ纳米工艺的DDR5 DRAM内存芯片已经投产,性能、能效、密度等各项指标都大幅提升。 DRAM内存行业的节点工艺一直不标注具体数值,而是1a、1b、1c、
快科技2月26日消息,ASML Twinscan EXE:5000 EUV是当今世界上最先进的EUV极紫外光刻机,支持High-NA也就是高孔径,Intel去年抢先拿下了第一台,目前已经在俄勒冈州Fab D1晶圆厂安装部署了两台,
快科技1月24日消息,据国内媒体报道称,荷兰首相斯霍夫日前接受采访时表示,在荷兰光刻机巨头阿斯麦对华出口产品的问题上,荷兰政府希望自行决定实施什么样的政策。 “美国拜登政府就限制
美国劳伦斯利弗莫尔国家实验室(LLNL)宣布开发出了一种名称为大孔径铥 (BAT) 激光器,旨在为极紫外 (EUV) 光刻技术的下一步发展奠定基础。 该激光器的效率号称是目前ASML EUV光刻机中使用
快科技1月6日消息,美国劳伦斯利弗莫尔国家实验室(LLNL)正在研究一种效率比传统CO2 EUV激光器高10倍的激光器,这将为下一代EUV光刻技术发展奠定基础。 据报道,LLNL正在研发的是一种拍瓦级(
快科技12月19日消息,据报道,日本初创晶圆代工厂Rapidus已成功接收其订购的首台ASML EUV光刻机,这是日本境内首次引入量产用EUV光刻设备。 Rapidus也成为日本首家拥有EUV光刻机的公司,由于EU
快科技11月15日消息,ASML在近日举办的2024年投资者日会议上,更新了长期战略以及全球市场和技术趋势分析,确认其到2030年的年收入将达到约440亿至600亿欧元(约合人民币3355亿元至4575亿元),毛
8月7日消息,近日日本冲绳科学技术大学(OIST)的Tsumoru Shintake教授带领的研究团队提出了一项全新、大幅简化的面向极紫外(EUV)光刻机的双反射镜系统。 相比传统的至少需要六面反射镜的配置
快科技8月6日消息,在近日的财报电话会议上,Intel CEO宣布已成功接收全球第二台价值3.83亿美元的High NA EUV(极紫外光刻机)。 High NA EUV光刻机是目前世界上最先进的芯片制造设备之一,其分
快科技7月17日消息,ASML(阿斯麦)今天公布了2024年第二季度财报,形势喜人:净销售额62.43亿欧元,环比增长18.0%;毛利率51.5%,较上季度提升0.5个百分点;净利润15.78亿欧元,环比增长28.9%