ASML:EUV光刻机非常复杂 只有我们能造出来
2020-02-01 16:30:35  出处:快科技 作者:宪瑞 编辑:宪瑞     评论(0)点击可以复制本篇文章的标题和链接

很多人都知道半导体工艺中光刻机是最核心的,因为它决定了半导体工艺的技术水平,而且成本能占到整个芯片的1/3。在进入7nm节点之后,光刻机也需要升级到EUV光刻机,目前仅有荷兰ASML公司能造,该公司CEO表示EUV光刻机非常复杂,没有可能被复制,全球只有ASML能生产。

据荷兰媒体报道,在122日的ASML财报会议上,ASML公司CEO Peter Wennink谈到了EUV光刻机的问题,他解释说ASMLEUV光刻机的系统集成商,这套设备集成了全球数百家公司的技术,拥有超过8000多个零部件,许多零件都是非常复杂的。

Peter Wennink表示,以镜头为例(注:物镜系统是光刻机三大核心之一,其他两个是激光系统、工作台),卡尔蔡司为ASML提供光学镜头,集成了各种反光镜及光学部件,世界上没有哪家公司能够复制他们的技术。

Peter Wennink强调,ASML的光刻机装有传感器,一旦检测到异常情况就会发出警报。

根据ASML财报的最新财报2019年该公司交付了26EUV光刻机,远超上一年的18台,预计2020年交付35EUV光刻机,2021年则会达到45台到50台的交付量,是2019年的两倍左右。

ASML:EUV光刻机非常复杂 只有我们能造出来

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#极紫外光刻

责任编辑:宪瑞

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