快科技5月13日消息，提到芯片制造，很多人都会第一时间想到光刻机，特别是EUV光刻机，毕竟全球只有荷兰ASML一家公司能生产，美国自己也无法生产。

在这些人的观念里，光刻机就好像是飞机、军舰中的发动机一样，只要没有ASML的光刻机甚至EUV光刻机，就没法制造半导体芯片一样。

不仅是国内的网友这么认为，唯光刻机论在海外也很有市场，似乎大部分网友都是这样想的，已经到了神化ASML的地步了，只要提到芯片制造就会强调光刻机会卡脖子，而有了光刻机，台积电这样的公司就能随便复制一样。

但在业内人士来看，这种观念显然是不合理的，专业半导体网站的专家dylan522p解释说，以成本来算，ASML的光刻机只占了半导体制造的20%，他们甚至不是业界最大的装备公司，AMAT应用材料才是。

哪怕是EUV光刻机，它也不（直接）制造出芯片，而是曝光了光刻胶并图案化，芯片是其他设备制造的，比如沉积、蚀刻、清洁、抛光、外延及离子注入等环节。

当然，他这个说法也有不少人不认同，不过大体上来说没错，在不同的制造中光刻机的占比不同，越是先进的工艺中EUV光刻机越重要，成本占比也会远超20%，因为要用光刻机多重曝光。

如果是内存或者闪存芯片制造，可能比光刻机更重要的是极高深宽比的蚀刻机，在这方面美国应用材料、KLA等公司要比ASML更卡脖子。

好消息是，国内的公司在蚀刻机这方面的进展比光刻机还要迅速，已经有不少重要突破了。