快科技4月23日消息，在日前的北美技术论坛上，台积电又发布了A13、A12两代工艺，都是在2029年问世，属于A14节点的增强版。

更重要的是，台积电这次还正式对下一代EUV光刻机的愿景做了回应，CEO魏哲家表示不会购买High NA EUV光刻机。

这一句话让唯一能生产EUV光刻机的ASML公司股价暴跌5.5个点，该公司市值超过4600亿美元，一年来股价翻倍，今年以来也涨了30%多。

台积电不买的直接原因是太贵，High NA EUV光刻机的售价达到了3.5亿欧元，差不多就是4亿美元，比当前的EUV光刻机价格贵了一倍左右。

CEO张忠谋的评价是High NA EUV光刻机非常非常贵（very, very expensive）。

不过细究起来，台积电不买这种光刻机的说法也值得推敲，该公司每年资本开支500亿美元，今年可能达到560亿美元，即便High NA EUV光刻机贵了2亿美元，一条生产线也不会高多少。

这更像是商业考量，因为台积电现在把长期的毛利率设定在了56%以上，要知道以前台积电的目标也就50%左右，别小看这几个点的差距，很快就会是每年50-100亿美元的利润差别了。

结合台积电推出A13、A12工艺就更能看懂他们的意图了，本来A14工艺之后是A10工艺，结果现在又搞出了2个过度工艺，而且提升不会多明显，以致于台积电连明确的性能、功耗变化都不提，只说A13比A14面积能小6%左右。

High NA EUV光刻机的NA值是0.55，比当前的EUV光刻机的NA=0.33大幅提升，有助于提高光刻分辨率，也就是直接提升工艺能力，是1.4nm节点之后必备的，但台积电现在显然不想用High NA EUV光刻机推进，选择继续用当前的EUV光刻机打磨A14工艺，撑几年再说。

ASML之前预计27到28年大量销售High NA EUV光刻机，设定2030年营收达到600亿美元，现在台积电不买账，这个目标有点难。

High NA EUV光刻机的主要客户得靠Intel了，ASML预计明年能销售10台High NA EUV光刻机，其中2台是SK海力士购买的，剩下的主要是Intel，他们会把这种设备用于18A之后的14A工艺。

Intel之前在EUV光刻机进度上吃了亏，现在的选择是加码下一代High NA EUV光刻机，而台积电在这方面选择了更保守的做法，两家谁对谁错现在没法判断，三四年后看谁的工艺能获得更多客户再说输赢吧。