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ASML预测EUV光刻机将成主流:2025年占比超60%
2021-12-23 20:53:51  出处:Techweb  作者:海蓝 编辑:万南     评论(0)点击可以复制本篇文章的标题和链接

12月23日消息,据报道,随着芯片制程工艺的提升,芯片代工商对极紫外光刻机的需求也明显增加。

台积电和三星电子就已采购了大量的极紫外光刻机,存储芯片制造商SK海力士也已开始采用极紫外光刻机,在未来5年也将大力采购,美光科技也已计划在2024年开始安装极紫外光刻机。

芯片大厂大量采购极紫外光刻机,也就意味这一类光刻机的应用比例在未来几年将大幅提升,并逐渐占据主导地位。

而全球目前唯一能制造极紫外光刻机的阿斯麦公司预计,到2025年,全球所运行的光刻机中,极紫外光刻机所占的比例将超过60%。

阿斯麦预计2025年极紫外光刻机所占的比例超过60%,这是他们负责营销的一名高管,在有关极紫外光刻机生态系统的一次会议上透露的。

这名高管透露,他们预计极紫外光刻机所占的比例在未来5年将平稳增长,最终在全球半导体市场所应用的光刻机中,占据超过60%的份额。

作为当前全球唯一能制造极紫外光刻机的厂商,极紫外光刻机的高需求,也将大幅推升阿斯麦的业绩。极紫外光刻机目前也已成为了阿斯麦营收的主要来源,财报显示在今年三季度,在阿斯麦光刻机业务的营收中,极紫外光刻机就贡献了54%。

ASML预测EUV光刻机将成主流:2025年占比超60%

责任编辑:万南

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