ASML:限制EUV光刻机真正损害的是外企利益 中国半导体仍会进步
2021-04-15 13:17:36  出处:快科技 作者:万南 编辑:万南     评论(0)点击可以复制本篇文章的标题和链接

中芯国际的7nm工艺“万事俱备”,只欠EUV光刻机进场,实在惋惜。

在最新媒体交流中,荷兰ASML(阿斯麦)CEO Peter Wennink也对此事发表了看法,他认为限制措施最终伤害的是中国之外那些企业的利益,因为它们被排除在了其中一个世界最大的芯片市场之外

Peter Wennink还表示,这些暂时的困难不会阻碍中国半导体技术的进步,只是建立出一套完备的自有技术和设备链条,还需要相当时间。

其实,ASML原本想在中国市场大展拳脚,以分食大蛋糕,但现在却无法交付自己最值钱、最先进的EUV光刻机。

今年1月份,Wennink透露仍在争取EUV光刻机许可证,荷兰方面也正同欧盟、美方等谈判。

按照时间表,ASML年底前将开始交付更先进的NXE:3600D EUV光刻机,生产效率提高18%,预计会是台积电、三星3nm制程的主要依托。

另外,全球贸易组织SEMI周三发布的报告指出,中国大陆已跃升全球第一大半导体设备销售市场,去年规模达到187亿美元,加上中国台湾地区的话,这一数字将超350亿美元。然而,在最终的IC芯片销售上,美国、韩国仍高居前两名,分别占55%和21%。

ASML:限制EUV光刻机真正损害的是外企利益 中国半导体仍会进步

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#阿斯麦#光刻机#极紫外光刻

责任编辑:万南

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