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努力打破国外对光刻胶垄断:我国“冰刻2.0”三维微纳加工系统雏形初现
2020-12-07 16:36:05  出处:快科技 作者:雪花 编辑:雪花     评论(0)点击可以复制本篇文章的标题和链接

光刻胶是微纳加工过程中非常关键的材料。有专家表示,中国要制造芯片,光有光刻机还不够,还得打破国外对“光刻胶”的垄断。

日前,西湖大学仇旻研究团队在《纳米快报》《纳米尺度》《应用表面科学》等期刊上连续发表一系列研究成果,雕刻小到微米甚至纳米级别的“冰雕”游刃有余,从精确定位到精准控制雕刻力度,再到以“冰雕”为模具制作结构、加工器件,一套以“wafer in, device out”(原料进,成品出)为目标的“冰刻2.0”三维微纳加工系统雏形初现。

这个研发带来显然极具前景,为何这样说呢?零下140摄氏度左右的真空环境,能让水蒸气凝华成无定形冰。“无常形”的水蒸气可以包裹任意形状的表面,哪怕是极小的样品也没有问题;水蒸气轻若无物,使在脆弱材料上加工变成可能。对应“光刻胶”,他们给这层水冰起名“冰胶”,给冰胶参与的电子束光刻技术起名“冰刻”。

实际上,一旦将光刻胶换成了冰胶,还能够极大地简化加工流程,规避洗胶带来的污染,以及难以洗净的光刻胶残留导致良品率低等问题。“冰刻”只需要让冰融化或升华成水蒸气即可,仿佛这层冰胶不曾存在过一样。

上述团队在最新发表的文章结尾,他们用一种非常科幻的方式展望了“冰刻”的未来。毫无疑问,未来围绕“冰刻”的研究,将聚焦于传统“光刻”能力无法企及的领域。

受益于水这种物质得天独厚的生物相容性,在生物样本上“冰刻”光子波导或电子电路有望得以实现。

努力打破国外对光刻胶垄断:我国“冰刻2.0”三维微纳加工系统雏形初现

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