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中芯国际称7nm EUV光刻机问题已解决 技术研发步入正轨
2019-12-09 18:59:39  出处:快科技 作者:宪瑞 编辑:宪瑞     评论(0)点击可以复制本篇文章的标题和链接

在半导体工艺进入10nm节点之后,制造越来越困难,其中最复杂的一步——光刻需要用到EUV光刻机了,而后者目前只有荷兰ASML阿斯麦公司才能供应。中芯国际去年也订购了一台EUV光刻机,日前该公司表示与ASML之间已解决光刻机的问题,EUV技术研发步入正轨。

前不久有消息称ASML停止对中芯国际供应EUV光刻机,随后ASML公司表示不是停供,而是延期,主要是在准备该国政府的出口申请文本工作。

中芯国际董事长周子学日前在韩国访问,韩媒报道称周子学表态已经解决了与ASML之间就光刻机供应存在的问题,强调中芯国际在先进工艺上的研发、生产一直处于稳定的轨道上,与客户及设备供应商之间没有任何问题。

ASML公司是EUV光刻机目前唯一的供应商,今年四季度,ASML预计交付8EUV光刻机,平均每台价格达到了1.2亿欧元,折合人民币9.3亿元,堪称人类最昂贵的设备了。

中芯国际称7nm EUV光刻机问题已解决 技术研发步入正轨

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