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台积电5nm工艺试产良率已达50%:产能几近翻倍 苹果华为首发
2019-10-28 16:06:04  出处:快科技 作者:宪瑞 编辑:宪瑞   点击可以复制本篇文章的标题和链接

7nm节点,台积电几乎垄断了所有主要的芯片代工订单,从苹果、华为到AMD、赛灵思,无一不采用台积电工艺。很快台积电就要量产5nm工艺了,据悉风险试产良率已达50%,产能也有望翻倍

根据台积电联席CEO魏哲家此前公布的数据,5nm工艺已经完成研发,目前正在风险试产,量产时间也提前到了明年Q1季度,这个时间比通常年中量产要提前一个季度左右,显示出5nm工艺进展良好。

来自供应链的消息称,5nm风险试产阶段的良率就达到了50%,要比以往的先进工艺试产顺利很多。随着时间的推移,5nm工艺的良率会逐步提升,尤其是大规模量产阶段。

不仅良率让人满意,台积电的5nm工艺产能也大幅增长,最初预计只有每月4.5万片晶圆,之后因为需求高涨,一路上涨到5万片、7万片,最终有可能达到每月8万片晶圆的产能规模,几乎翻倍。

5nm产能大涨也跟市场需求居高不下有关,目前可以确定会用5nm工艺的就有苹果、华为海思,这两家是最早首发的,苹果的A14、华为麒麟1000(暂定名)早在今年9月份就完成5nm流片了,进度也是最快的。

后续AMDZen4处理器、高通的麒麟875、赛灵思的新一代FPGA也有望用上台积电的5nm工艺,不过进度要比前面两家晚一些。

根据官方数据,相较于7nm(第一代DUV),基于Cortex A72核心的全新5nm芯片能够提供1.8倍的逻辑密度、速度增快15%,或者功耗降低30%,同样制程的SRAM也十分优异且面积缩减。

除此之外,今年7月份台积电又宣布了增强版的N5P,也是优化前线和后线,可在同等功耗下带来7%的性能提升,或者在同等性能下降功耗降低15%。

还有一点,台积电的5nm节点还会全面使用EUV工艺,相比7nm EUV工艺只使用4EUV光罩,5nm EUV工艺的光罩层数将提升到14-15层,对EUV工艺的利用更加充分。

台积电5nm工艺试产良率已达50%:产能几近翻倍 苹果华为首发

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