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华虹12寸晶圆厂装备大陆最先进沉浸式光刻机:迈向14nm
2018-05-21 12:35:30  出处:快科技 作者:万南 编辑:万南   点击可以复制本篇文章的标题和链接

中芯国际花了1.2亿美元从荷兰ASML(阿斯麦)买来一台EUV极紫外光刻机,未来可用于生产7nm工艺芯片,长江存储也迎来了自己的第一台光刻机,同样来自ASML,不过是193nm沉浸式,用于产20-14nm工艺的3D NAND闪存晶圆,7200万美元一台。

华虹12寸晶圆厂装备大陆最先进沉浸式光刻机:迈向14nm

集微网报道, 5月21日上午,在上海浦东新区康桥工业园南区,华虹集团旗下上海华力集成电路制造有限公司建设和营运的12英寸先进生产线建设项目(“华虹六厂”)实现首台工艺设备光刻机搬入。

华虹12寸晶圆厂装备大陆最先进沉浸式光刻机:迈向14nm

这台光刻机的型号是NXT 1980Di,依然是荷兰ASML提供,后者官方显示这是一台193nm双级沉浸式光刻机,用于10nm级(14~20nm)晶圆生产,它也是大陆装备的最先进的沉浸式光刻设备。

华力微电子官网资料显示,华虹六厂是该司的第二个12英寸晶圆生产线,设计月产能4万片,工艺技术从28nm起步,最终将具备14nm三围工艺的高性能芯片生产能力。

另外,根据赛迪顾问的统计,按照销售额,上海华虹位列2017年国内十大集成电路制造企业第五位。

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