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三星2nm良率持续存在问题、量产一拖再拖!决定从得州晶圆厂撤出人员
2024-09-12 15:00:35  出处:快科技 作者:黑白 编辑:黑白     评论(0)点击可以复制本篇文章的标题和链接

快科技9月12日消息,据媒体报道,三星的2纳米工艺技术持续存在良率问题,量产时间一再推迟,目前量产时间表已从2024年底推迟到2026年。

为此,三星决定从美国得州泰勒工厂撤出人员,只留下最低限度的员工。

泰勒工厂原本被设计为4纳米及以下先进工艺的量产中心,但由于2nm良率始终低于50%,特别是与竞争对手台积电60%~70%的良率相比,三星的量产能力受到了严重质疑。

还有业内人士评论称,三星的全环绕栅极(GAA)工艺良率仅在10%-20%之间,这使得其既不足以接单也不足以实现量产。

三星董事长李在镕近期亲自拜访了ASML和蔡司等主要设备供应商,寻求工艺和良率改进的解决方案,但目前尚未取得显著成果。

一位半导体教授指出,三星内部的官僚主义、决策缓慢和薪酬问题可能是导致其晶圆代工竞争力下降的主要原因。

此外,与20-30年前相比,投资时机的延迟也反映了管理层对当前市场现实的认识不足。

三星2nm良率持续存在问题、量产一拖再拖!决定从得州晶圆厂撤出人员

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