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Intel今天在投资者会议上公布的工艺路线图显示2021年将推出7nm工艺,而且这还是他们第一次使用EUV光刻的工艺节点,目标是迎战台积电的5nm工艺。Intel在工艺上“追赶”台积电,但是台积
曾经,先进的制造工艺是Intel狠狠压制AMD乃至整个半导体行业的绝对大杀器,但现在完全反了过来。Intel 10nm工艺遭遇前所未有危机,至今未能量产,而台积电、三星一路狂奔,10nm、7nm、5nm相继上
不久前,台积电官方宣布了6nm(N6)工艺节点,在已有7nm(N7)工艺的基础上增强而来,号称可提供极具竞争力的高性价比,而且能加速产品研发、量产、上市速度。 台积电CEO兼副董事长魏哲家(CC Wei)最
本文经超能网授权转载,其它媒体转载请经超能网同意 在半导体领域,大部分人关注的都是nm工艺、存储芯片、光刻机等“明星”,不过就国内半导体产业的整体而言,除了先进工艺的缺失,
继台积电后,三星也宣布了5nm工艺,而相应的生产线正在建设,预计2019年下半年完成,明年可以开始投入使用。 今天三星宣布,已经成功完成了5nm EUV开发,并且相应的样品已经给客户送去,而由于
2020年iPhone或将采用5nm级芯片。 台积电(TSMC)宣布,在其开放创新平台(OIP)内提供其5nm芯片设计基础设施的完整版本,使下一代先进移动和高性能计算应用中的5纳米芯片系统(SOC)的设计成为
当我们还在纠结新买的手机或者电脑是不是最新的7nm或10nm芯片的时候,台积电在本月重磅宣布率先完成5nm的架构设计,且已经进入试产阶段。半导体工艺在如此短暂的时间内实现了如此快速的迭代,这
本月3号,台积电(TSMC)宣布,率先完成5nm的架构设计,基于EUV极紫外微影(光刻)技术,且已经进入试产阶段。 根据官方数据,相较于7nm(第一代DUV),基于Cortex A72核心的全新5nm芯片能够提
3月28日,Intel在京举办一年一度的媒体纷享会,全景介绍了Intel面向未来的公司战略,技术和产品方面也披露了不少干活,比如大家非常关心的制程工艺。 制程工艺、封装技术被Intel视为公司发展的
本文转载自超能网,其他媒体转载需经超能网同意 台积电创始人张忠谋去年第二次退出公司管理,这一次是彻底的裸退,台积电运营工作将交由联席CEO刘德音、魏哲家两人共同管理。考虑到张忠谋地位及
AMD今年将推出采用7nm工艺的第二代EPYC霄龙、第三代Ryzen锐龙处理器,其中后者已经在CES 2019上公开首秀,性能追评i9-9900K,功耗则低得多。 虽然被称为“女友”的GlobalFoundries临
半导体工艺越来越复杂,不过凭借强大的实力、不断的投入,再加上技术上的一些“偷懒”,台积电还是相继征服了10nm、7nm、5nm,其中7nm工艺已经迅速普及开来,也成了台积电最大的收入来
华为麒麟处理器这几年与台积电的合作关系非常紧密,16nm、10nm、7nm都拿到了首发,分别合作推出了麒麟960、麒麟970、麒麟980。 根据华为介绍,麒麟980项目研发耗资超过3亿美元,2015年就已经立
作为全球头号代工厂,台积电的新工艺正在一路狂奔,7nm EUV极紫外光刻工艺已经完成首次流片,5nm工艺也将在2019年4月开始试产。 不过众所周知,半导体工艺是一项集大成的高精密科技,新工艺也并
全球一号代工厂台积电宣布了有关极紫外光刻(EUV)技术的两项重磅突破,一是首次使用7nm EUV工艺完成了客户芯片的流片工作,二是5nm工艺将在2019年4月开始试产。 今年4月开始,台积电第一代7nm工
台积电的7nm制程工艺在华为麒麟980、苹果A12、高通骁龙8150等芯片上顺利量产之后,现在将已经将目光转向了更先进的5nm。在原来的计划中,5nm最早会在2020年才与消费者见面,但现在台积电将这个时
据外媒报道,光刻机霸主ASML(阿斯麦)已经开始出货新品Twinscan NXT:2000i DUV(NXT:2000i双工件台深紫外光刻机),可用于7nm和5nm节点。 NXT:2000i将是NXE:3400B EUV光刻机的有效补充,毕竟台
当AMD用上7nm时,Intel依然在打磨14nm…… 昨天和今天,AMD/Intel先后公布财报,两家企业在当季都实现了同比的大幅增长,AMD更是创下了7年来单季收入的最高。在财报会议上,双方的
在半导体工艺演进上,台积电、三星这几年是你追我赶,至少在数字上已经远远甩开Intel,台积电更是异常激进。 目前,台积电已经在7nm工艺节点上占据统治地位,拿下了众多大客户的大订单,比如已
三星不愿在7nm上使用DUV(深紫外)的过渡工艺,而是直接切入EUV,所以风险试产今年底才能开始,量产最快也要明年下旬了。不过,台积电和GF则思路有所不同,准备先用第一版7nm吸引客户,随后再导
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