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ASML否认特供版DUV:没有面向中国市场推出特别版光刻机
2023-07-06 16:38:40  出处:快科技 作者:宪瑞 编辑:宪瑞     评论(0)点击可以复制本篇文章的标题和链接

日前有报道称,ASML将面向中国市场推出特别版DUV光刻机,不过此事已经辟谣,ASML表示一直以来ASML都遵守所适用的法律条例,公司并没有面向中国市场推出特别版的光刻机。

此前消息称,ASML推出的特别版DUV光刻机基于TwinscanNXT:1980Di光刻系统改造,而1980Di是10年前推出的旧型号,不在本次官方禁令范围内。

1980Di是ASML现有效率比较低的光刻机,支持NA1.35光学器件、分辨率可以达到<38nm,理论上可以支持7nm工艺。

大多数晶圆厂使用1980Di光刻机,主要生产14nm及以上工艺芯片,很少使用其生产7nm芯片。

最近荷兰发布新规定,企业出口先进设备需要申请许可,9月1日后生效。

ASML表示,根据新出口管制条例规定,该公司需要向荷兰政府申请出口许可证才能发运最先进的浸润式DUV系统(即TWINSCANNXT:2000i及后续推出的浸润式光刻系统)。

荷兰政府将决定是否授予或拒发出口许可证,并将向ASML提供许可证所附条件的细节。

ASML否认特供版DUV:没有面向中国市场推出特别版光刻机

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