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消息称中芯国际14nm良率追平台积电:水准可达95%
2021-03-10 12:26:57  出处:快科技 作者:万南 编辑:万南     评论(0)点击可以复制本篇文章的标题和链接

今天上午(3月10日),选股宝爆料称,从供应链获悉,中芯国际14nm制程工艺产品良率已追平台积电同等工艺,水准达约90%-95%

与此同时,中芯国际各制程产能满载,部分成熟工艺订单已排至2022年。

月初有消息称,中芯国际14nm及以上(14nm及28nm等成熟工艺)的设备供应获得许可。

在硬实力方面,中芯国际联席CEO梁孟松此前曾披露,中芯国际的28nm、14nm、12nm、N+1等技术均已进入规模量产,7nm技术开发已经完成,今年4月可以进入风险量产,5nm、3nm最关键也是最艰巨的8大项技术也已经有序展开,只等EUV极紫外光刻机到来,就可以进入全面开发阶段。

去年7月,中芯国际正式登陆科创板,发行总股本为71.3642亿股,上市募集资金中40%用于12英寸芯片SN1项目,20%作为先进及成熟工艺研发项目的储备资金,40%作为补充流动资金。

值得一提的是,3月3日中芯国际发布公告称,与荷兰阿斯麦(ASML)达成12亿美元的产品购买单,根据ASML后续公告,这笔钱用于购买除EUV光刻机之外的设备。

消息称中芯国际14nm良率追平台积电:水准可达95%

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责任编辑:万南文章纠错

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