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ASML放言:没有我们的EUV光刻机 芯片厂商造不出7nm以下工艺
2020-07-02 17:18:29  出处:快科技 作者:宪瑞 编辑:宪瑞   点击可以复制本篇文章的标题和链接

作为半导体芯片生产过程中最重要的装备,光刻机一直牵动人心,制程工艺越先进就要离不开先进光刻机。ASML副总裁Anthony Yen日前表态,如果没有EUV光刻机,那么芯片厂商是造不出7nm以下工艺芯片的。

光刻是半导体芯片制造中最费时间也是最费成本的环节之一,而且它决定了芯片的工艺水平,常说的XXnm工艺主要是看光刻机水平,10nm工艺之后难度越来越大,光刻机也需要升级到EUV级别。

台积电在第一代7nm工艺上没有使用EUV光刻机,但是7nm之后的工艺就很难避开EUV光刻机了,理论上可以用多重曝光的方式制造5nm级别的芯片,但是成本、良率都是个问题,无法拒绝EUV光刻机。

目前ASML公司是唯一一个能生产EUV光刻机的公司,他们做出这样的表态其实也不让人意外,毕竟这是一台售价高达1.2亿欧元、约合10亿一台的高端设备,全球半导体制造厂商都要看ASML的脸色。

ASML放言:没有我们的EUV光刻机 芯片厂商造不出7nm以下工艺

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