2017年出货11台，2018年出货18台，ASML（阿斯麦）上周表示，计划在2019年出货30台EUV光刻机。

目前，ASML占有全球光刻机市场70%的份额，远远领先尼康。更重要的是，仅荷兰ASML有能力制造和出货EUV光刻机，尼康的最高技术水平还停留在ArF氟化氩沉浸式光刻机。

与此同时，ASML将在2019年推出产能更高的新型号Twinscan NXE: 3400C，取代现款售价1.2亿美元（约合8亿）的Twinscan NXE: 3400B。3400C的每小时晶圆雕刻能力从155片提升至170片，换装Cymer公司的340W光源。

资料显示，截至去年7月，全球各公司、研究机构等总共仅安装了31台EUV光刻机。不过，遗憾的是，迄今，大规模使用EUV（极紫外光刻）技术的先进工艺仍未量产，三星7nm LPP理论上进度最快，但当下仅限于在S3工厂小规模投产，年底位于韩国华城、投资6万亿韩元（约合362亿元）的工厂竣工后，将是三星7nm EUV主力厂。

另外，台积电的第二代7nm也将在非关键步骤上采用EUV技术，Intel、SK海力士也都对EUV光刻机有强烈需求。