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Intel:发布0.09微米制程技术
2002-08-14 02:25:00  出处:快科技 作者:P兔毛毛 编辑:P兔毛毛     评论(0)点击可以复制本篇文章的标题和链接

Intel今天发布业界领先的0.09微米制程技术。0.09微米制程可以用在处理器、芯片组和通讯产品芯片的制造上,Intel计划在2003年使用0.09微米制程技术推出产品。Intel的0.09微米制程技术包含了一系列业界领先的特点,使得Intel在芯片制造技术上再次领先对手,Intel 0.09微米制程技术主要包含1.2 nm gate oxide、strained silicon、7层铜互连、新低K电解质加速芯片

内部通讯、1.0 mm2 SRAM cell尺寸,300mm晶圆。

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