据报道，本月三星组建了一只由执行副总裁带头的团队，奔赴半导体微影技术设备制造商荷兰ASML公司总部，准备为7nm工艺购置最新的EUV极紫外光刻设备。

这些新采购的EUV极紫外光刻设备，最快将于2017年上半年安装完毕，新设备可以使用13.5nm波长的紫外光，在芯片上蚀刻出更细致的纹理。

目前三星方面表示，尽管研究速度比预期慢，但是三星仍然可以实现全球最快量产10nm工艺制程芯片。

据悉，三星10nm工艺的首名大客户已经确定为高通，未来的骁龙830等旗舰级处理器均将会使用三星10nm工艺打造。

除了10nm之外，三星还在全力研究7nm工艺，力求能够从台积电手中拿回苹果的代工订单。