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台积电:今年投产10nm工艺 2017年上半年试产7nm
2016-04-19 17:16:36  出处:快科技 作者:上方文Q 编辑:上方文Q   点击可以复制本篇文章的标题和链接

台积电张忠谋在给公司股东的一份报告中称,台积电将在2017年上半年开始7nm工艺的试生产。

台积电总裁兼联合CEO Mark Liu也在日前的投资者大会上透露,已经有20多家客户与台积电在洽谈7nm代工事宜,预计2017年会有15家客户完成流片工作。

他还表示,台积电7nm工艺开发进展顺利,将在2018年上半年投入量产。

台积电现在的工艺是16nm,并将在今年底投产10nm,而三星也会同步从14nm转到10nm,高通的下代旗舰骁龙828/830就会使用三星10nm

Mark Liu介绍说,台积电的7nm工艺和10nm工艺共享95%的设备,N7工艺节点也可以看做是N10的升级版,但是晶体管密度可以增加超过60%,功耗则降低30-40%。

台积电的10nm工艺主要面向移动设备,7nm则同时面向移动和高性能计算应用——这意味着很多手机处理器会上台积电10nm,而桌面显卡只能等7nm。

从今年第一季度开始,台积电就在陆续完成10nm工艺的流片,而“大规模需求”将从2017年第二季度开始。

芯片巨头Intel明年才会上10nm,而按照新的发展规划,7nm工艺怎么也得2020年了。

台积电:今年投产10nm工艺 2017年上半年试产7nm

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