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Intel准备0.032微米制程
2004-08-03 11:36:00  出处：快科技 作者：P2MM 编辑：P2MM     评论(0)点击可以复制本篇文章的标题和链接
#快讯

根据ZDNET报道，Intel已经在Hillsboro, Ore., campus的研发中心，成功安装业界第一台商业运行的极度紫外光石版照相设备，Intel将采用这种设备在0.032微米制程的晶圆上刻画金属电路。Intel预期在2009年投产0.032微米制程处理器。目前Intel不是唯一一家采用这种技术的芯片厂商，AMD、IBM、英飞凌、Micron和摩托罗拉都已经加入EUV LLC。

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