正文内容 评论(0

Intel最新制程路线图曝光:10nm+++得到证实、2029年上马1.4nm
2019-12-11 12:00:33  出处:快科技 作者:万南 编辑:万南     评论(0)点击可以复制本篇文章的标题和链接

UPDATE——

原文流传年的幻灯片并非出自Intel官方,而是荷兰光刻机巨头ASML在Intel原有幻灯片基础上自行修改的,5nm、3nm、2nm、1.4nm规划均不是出自Intel官方,不代表Intel官方路线图。

Intel官方原始幻灯片如下:

Intel最新制程路线图曝光:10nm+++得到证实、2029年上马1.4nm

在IEDM(IEEE国际电子设备会议上),有合作伙伴披露了一张号称是Intel 9月份展示的制造工艺路线图,14nm之后的节点一览无余,甚至推进到了1.4nm。

让我们依照时间顺序来看——

目前,10nm已经投产,7nm处于开发阶段,5nm处于技术指标定义阶段,3nm处于探索、先导阶段,2nm和1.4nm还在预研。节奏方面,从今年的10nm开始,Intel将以两年的间隔来革新制程工艺,即2021年7nm EUV、2023年5nm、2025年3nm……所以理论上,1.4nm需要等到2029年,尺度上也就是12个硅原子大小。

Intel最新制程路线图曝光:10nm+++得到证实、2029年上马1.4nm

10nm+++证实

从Intel的规划不难看出,每一代工艺都至少要经历“+”和“++”两次迭代改进,只有10nm是个例外,由于14nm的反复优化,10nm被迫延期,所以当前的10nm其实已经是10nm+,故明年会推出10nm++,2021年还有10nm+++。

向下移植

当前,Intel的芯片设计往往会考虑制程能力,也就是同步研发。但Intel将可能的延期问题考虑进来,引入“向下移植”特性,也就是说,初期以7nm为蓝本设计的处理器方案,同样可以使用10nm+++来制造。不过,Intel已经表示,将尽快实现芯片设计和工艺节点的分离。

Intel最新制程路线图曝光:10nm+++得到证实、2029年上马1.4nm

按照日前Intel CEO司睿博在瑞信大会上的说法,Intel 7nm首批产品确定会在2021年第四季度推出,相较于10nm,有着两倍的晶体管密度。

Intel最新制程路线图曝光:10nm+++得到证实、2029年上马1.4nm

【本文结束】如需转载请务必注明出处:快科技

责任编辑:上方文Q文章纠错

  • 支持打赏
  • 支持0

  • 反对

  • 打赏

文章价值打分

当前文章打分0 分,共有0人打分
  • 分享好友:
  • |
本文收录在
#Intel#10nm#7nm#5nm#3nm

  • 热门文章
  • 换一波

  • 好物推荐
  • 换一波

  • 关注我们

  • 微博

    微博:快科技官方

    快科技官方微博
  • 今日头条

    今日头条:快科技

    带来硬件软件、手机数码最快资讯!
  • 抖音

    抖音:kkjcn

    科技快讯、手机开箱、产品体验、应用推荐...