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日前,国内媒体报道,据荷兰当地留学的华人爆料,在他向ASML投递简历之后,遭到了光刻巨头的拒绝。按照爆料者的说法,相关人在拒绝邮件中表示,因为ASML公司受到美国政府禁止,不能招收中国员工
本文经超能网授权转载,其它媒体转载请经超能网同意 在光刻机领域,荷兰ASML公司几乎垄断了全球高端光刻机市场,在EUV光刻机中更是独一份,7nm及以后的工艺都要依赖EUV光刻机。 在高科技领域,
据外媒报道,光刻机霸主ASML(阿斯麦)已经开始出货新品Twinscan NXT:2000i DUV(NXT:2000i双工件台深紫外光刻机),可用于7nm和5nm节点。 NXT:2000i将是NXE:3400B EUV光刻机的有效补充,毕竟台
无论Intel还是AMD,无论台积电还是三星,他们要想造出芯片,都必须依赖一种叫光刻机的设备,这是半导体芯片生产中的核心技术,但全球能提供光刻机的厂商寥寥无几,荷兰ASML(阿斯麦)就是其中绝对
本周在火奴鲁鲁举行的VLSI(超大规模集成电路)研讨会上,三星首次分享了基于EUV技术的7nm工艺细节。 EUV在半导体领域的应用已经研发了将近30年之久,终于在2018年看到曙光,三星称风险试产年底
北京时间5月23日上午消息,三星似乎想从台积电手中争夺定制芯片业务,因为三星宣称公司很快就会开始用7纳米技术制造处理器。 三星是世界最大的芯片制造商,它说今年就会使用新技术,明年为客户
中芯国际花了1.2亿美元从荷兰ASML(阿斯麦)买来一台EUV极紫外光刻机,未来可用于生产7nm工艺芯片,长江存储也迎来了自己的第一台光刻机,同样来自ASML,不过是193nm沉浸式,用于产20-14nm工艺的
本文经超能网授权转载,其它媒体转载请经超能网同意 今年英特尔、台积电、三星、Globalfoundries等半导体公司的制程工艺已经进化到了10nm、7nm节点,国产最先进的工艺依然是28nm工艺,差距在三
本文经超能网授权转载,其它媒体转载请经超能网同意 随着闸极越做越小,制程线宽不断升级,由10年前的90nm,65nm一直升级到现在的14/16nm,10nm甚至7nm,摩尔定律都在有条不紊着指挥半导体行业
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