作为半导体制造中的核心设备，光刻机无疑是芯片产业皇冠上的明珠，特别是先进工艺的光刻机，7nm以下的都要依赖ASML公司，EUV光刻机他们还是独一份。

日前在上海的第三届进出口博览会上，ASML全球副总裁、中国区总裁沈波在采访中表示，他们对进博会开放、合作的理念很认同，这也是ASML公司长期以来支持行业和客户发展的信念。

沈波透漏，ASML与中国的渊源极深，最早一台光刻机是于1988年进入中国，迄今已经32年了。

2000年ASML还在天津正式成立了分公司，目前已在中国设有12个办公室，11个仓储物流中心，2处开发中心，1个培训中心，共拥有1000多名员工。

根据沈波的消息，这么多年来他们已经为中国国内地区的半导体客户累积提供了700多台装机。

随着国内半导体行业的发展，国内客户购买的光刻机等产品也越来越多，根据ASML的财报，今年Q2、Q3季度中，公司发往国内地区的光刻机占了全球销量的20%。

在这次进博会上，ASML此次也带来了其整体光刻解决方案，包括先进控制能力的光刻机台计算光刻和测量通过建模、仿真、分析等技术，让边缘定位精度不断提高，目前的DUV光刻机可以制造7nm及以上工艺的半导体芯片。