尽管2019年Intel已经量产了10nm工艺，但是因为多年延期，导致10nm工艺进度没跟上，目前还处于产能爬坡阶段，以致于Intel的处理器出现供应短缺的问题。为了彻底解决这些问题，Intel还在努力推进7nm工艺，最快2021年量产。

7nm是Intel下一代工艺的重要节点，而且是高性能工艺，其地位堪比现在的14nm工艺，而且它还是Intel首次使用EUV光刻的制程工艺，意义重大。

根据Intel之前公布的信息，其7nm EUV工艺相比10nm工艺晶体管密度翻倍，每瓦性能提升20%，设计复杂度降低了4倍。

7nm工艺的首款产品就是Xe架构的GPU加速芯片，主要应用于数据中心AI及高性能计算，最快2021年量产，也就是2年后7nm EUV就能担大梁了。

目前Intel正在加速7nm EUV工艺的步伐，今年8月份就订购用于7nm EUV工艺节点的材料和设备，比预期速度更快。