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华为李小龙揭秘EUV工艺:半导体领域重大突破
2019-09-08 08:19:49  出处:快科技 作者:小淳 编辑:小淳     评论(0)点击可以复制本篇文章的标题和链接

9月7日,华为手机产品线副总裁李小龙在微博科普了一番麒麟990 5G使用的EUV(极紫外线)光刻工艺。

李小龙赞叹道:“这次发布的麒麟990 5G使用了EUV(极紫外线)光刻工艺,光刻设备的波长从之前的193纳米缩短到了10几纳米,这在半导体领域是非常大的一个突破。正是基于这项技术,我们才能够在约200mm2的面积下集成了103亿颗晶体管,几乎比上一代产品增加了一半。”

但EUV究竟是什么呢?李小龙推荐了一篇科普文章,感兴趣的读者可以前往围观,简单来说,EUV是极紫外光刻(Extreme Ultraviolet Lithography)的缩写,常称作EUV光刻,它以波长为10-14纳米的极紫外光作为光源的光刻技术。

麒麟990 5G采用了台积电的7nm+ EUV工艺,此前有消息称,苹果的A13也已经锁定台积电7nm+。

此外台积电还透露, 正稳步推进下一代5nm工艺,全面应用EUV技术,已经开始风险性试产,预计2020年第一季度量产。另外台积电还有个过渡性质的6nm工艺,基于7nm改进而来,预计2020年第一季度试产,非常适合现有7nm工艺用户直接升级。

华为李小龙揭秘EUV工艺:半导体领域重大突破

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