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黄仁勋回应7nm显卡的“缺席”:英伟达的优势在于高能效比
2019-03-25 16:06:15  出处:ZAEKE|知客  作者:无畏的希望 编辑:小淳   点击可以复制本篇文章的标题和链接

据外媒Digital Trends报道,英伟达CEO黄仁勋在GTC 2019(GPU技术大会)上被问道外界对7nm制程GPU的缺席感到不满时回应道,“台积电方面很乐意向我们出售7nm工艺,但对于英伟达的工程师们来说,使用更先进的制程远不如提高效能比来得更重要。这样即便使用了更大的架构设计,也能在能耗比上要比其他更低制程的GPU表现更好。”

英伟达RTX系列显卡使用的是台积电的12nm FNN工艺

此前有知情人士表示,该工艺是英伟达携手台积电联合定制开发的制程工艺,不过关于该工艺的具体细节双方并未进行过任何的说明。

至于不少玩家关心英伟达何时推出7nm制程显卡的问题,黄仁勋并未在GTC 2019大会上做出任何的说明。

仅仅在本届大会上着重介绍了开发者如何去挖掘RTX图灵架构在绘图和AI计算方面的潜力,从而带来更好的运算性能。

黄仁勋回应7nm显卡的“缺席”:英伟达的优势在于高能效比

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