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台积电与飞思卡尔携手向32nm进发
2006-06-02 16:05:00  出处:快科技 作者:上方文Q 编辑:上方文Q     评论(0)点击可以复制本篇文章的标题和链接

据飞思卡尔(Freescale)表示,在45nm工艺晶圆生产取得良好成果之后,台积电(TSMC)已经开始与飞思卡尔开始合作进行32nm工艺的开发。

飞思卡尔声称已经开始了45nm工艺产品的设计,但未透露是否会将订单交给台积电,由后者的45nm平版印刷生产工艺实现。

台积电将与飞思卡尔在法国Fab Crolles2工厂的合作也将向32nm工艺进军。Crolles2 Alliance是飞思卡尔半导体、意法半导体和飞利浦等半导体生产商直接合作组成的联盟,台积电也参加了该联盟对新工艺的开发过程。

飞思卡尔没有透露双方何时能实现32nm工艺的成品化。

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