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12nm新工艺!AMD Radeon RX 590首发评测:能效比提升10%
2018-11-15 22:00:00  出处:快科技 作者:流云 编辑:流云     评论(0)点击可以复制本篇文章的标题和链接

六、温度功耗测试:满载80度 烤机功耗低于非公RX 580

1、温度测试

这里只测试XFX RX 590的温度,分别测试其在待机、3Dmark、以及Furmark的温度表现。测试时室温为19度。

12nm新工艺!AMD Radeon RX 590首发评测:能效比提升10%

Furmark的参数设定为1920*1080分辨率,0AA。运行10分钟之后,XFX RX 590的温度稳定在80度。

12nm新工艺!AMD Radeon RX 590首发评测:能效比提升10%

XFX RX 590在温度低于60度时,风扇会自动停转,由于其本身散热器规模不是不是庞大,待机温度也达到了35度,运行3DMark的最高温度为74度,进行Furmark烤机时的最高温度则为80度。

2、功耗测试

虽然XFX RX 290频率比公版要高了35MHz,但是其225W的TDP与公版相同。分别测试待机与Furmark烤机功耗,测试所用的电源为酷冷至尊MasterWatt Maker1200W铂金电源。

另外,我们是使用超频平台进行测试,整个平台读出来的功耗会比默认频率时高出20W左右。

12nm新工艺!AMD Radeon RX 590首发评测:能效比提升10%

很惊讶的看到,虽然XFX RX 590的频率比XFX RX 580高了169MHz,性能也有8%的提升,但是其烤机功耗竟然还更低,这应该就是“12-nm FinFET”制程工艺带来的能效提升。不过和NVIDIA的帕斯卡相比,差距依然非常遥远、遥远...

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