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省电更凉爽 Intel 45nm使用High-K技术
在近日台北举行的IDF大会上,Intel公布他们已经成功于CPU中应用High-K技术,从而减少CPU电晶体漏电情况。与当前采用的SIO技术相比,High-K防漏电能力提升惊人,如果将SIO技术下漏电比为1,那么High-K将是0.01。这不仅降低了CPU发热量,亦再次增加了处理器时脉的提升能力
应用此技术的45nm处理器将于2007年左右上市。
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