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Infineon 20nm制程闪存单元
2004-12-17 15:28:00  出处:快科技 作者:Duo 编辑:Duo     评论(0)点击可以复制本篇文章的标题和链接

Inquirer报道,德国半导体巨人Infineon日前声称,其已经研制出了一款采用20nm制程的易失性闪存。比人类的头发还细5000倍。

根据Infineon公司,随着对该技术的不断深入研究,最终将会使得易失性存储芯片在几年内达到32Gbit。研究人员通过将一种“鳍”型晶体管采用三维结构存放,以制成该芯片。这一结构能够收到意想不到的效果并且能够得到更好的电气控制。

FinFET(Fin field effect tranistors)将电子存储在氮化物层中,以隔离硅层和门电极。该“鳍”型晶体管只有大约8nm厚,通过一个20nm的门电极来控制。

Infineon宣称,目前的类似存储技术需要使用1000个电子才能可靠的存储1位信息,但是FinFET则只需使用100个电子。


Infineon 20nm制程闪存单元

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