根据报道:Bell实验室刚刚发现了一种新的概念来理解晶体管的缩放比例极限,可以运用在今后的半导体设备上.

"Bell实验室可以通过一种新的方法来观察半导体内部状况,甚至可以发现硅片里面的一个杂质原子并成像.这在电子行业尚是首次,通过一架特殊的电子显微镜,就可以发现在晶体内单个的杂质并进行成像.

这个发现将有助于提高摩尔定律,这个由Intel公司的创建者之一Gordon Morre提出来的半导体工业定律:每18个月在微处理器内部的电子晶体管的数量就会翻一倍.

Bell的突破将可以让科学家们更深刻的理解晶体管的纯度对它的影响.这些杂质在半导体(例如硅)中可以提供电子载体,从而控制半导体的电属性."

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