根据Zdnet的报道,英特尔已经订购了一批新的测试工具，新的工具使用EUV(Extreme Ultraviolet Lithography，远紫外光微影技术),据英特尔表示，可以帮助公司克服产业即将面临的一个重大障碍，并持续提高芯片效能。

"在英特尔负责蚀刻投资设备发展的总监Peter Silverman在周一时表示，利用EUV让英特尔得以以每两年一个新技术世代的步骤赶上摩尔定律 （Moore's Law）。

摩尔定律是由英特尔的联合创办人之一的高登．摩尔（Gordon Moore）所提出的一个公式，可用以说明芯片演进的脚步。他说，随着晶体管 的逐渐缩小，一片芯片上的晶体管数每隔18至24周就会加倍。然而近来，业界已经开始担心，由于实际的物理障碍或是经济的因素，摩尔定律 将可能瓦解。而如果芯片无法做得更小，或者是无法放进更多的晶体管，那么半导体产业基本上将陷入困境。

EUV是一种新型的微影技术──一般用在芯片上印刷电路模型之用的──也就是知名的「光微影术」(photolithography)。这是由 Livermore and Sandia国家实验室的私人与政府合作所开发而出的技术，光微影的运作原理基本上与摄影是一样的。使用这种机器把电路模型 的影像缩小然后再打印到硅晶圆上。接着再移除或加入金属层，在这个手序里影像将变为复杂的铜导线电路。EUV测试机可用来拍这种照片。"

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