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iPhone 18 Pro/20周年iPhone渲染图出炉：挖孔渐渐消失
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快科技11月15日消息，根据博主爆料的消息，明年的iPhone 18 Pro系列将首次缩小灵动岛面积，2027年亮相的20周年iPhone将会把Face ID和前摄全部置于屏幕下方，实现真面屏形态。
有博主基于爆料信息绘制了iPhone 18 Pro和20周年iPhone的渲染图，在这两代iPhone上，正面的挖孔区域渐渐消失。
目前安卓阵营已经推出了屏下前摄机型，代表品牌是努比亚，最新的红魔11 Pro系列以及努比亚Z80 Ultra都是真全面屏旗舰。以努比亚Z80 Ultra为例，该机采用纳米级高透材料、独立像素驱动技术，显著提升屏下摄像透光率，最终实现屏下镜头全场景完美隐藏效果。
相比努比亚，苹果要想要实现真全面屏设计，不仅要做屏下前摄，还要将Face ID组件置于屏幕下方，既不影响显示效果又兼顾生物识别。
在此之前，有关苹果屏下Face ID的多项专利被曝光，苹果的新专利通过创新设计，移除部分子像素，使红外光能够更顺畅地穿过屏幕盖板，从而实现高效的屏下人脸识别。
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