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自主研发 南大光电国产高端光刻胶通过认证 已经用于50nm工艺
2023-04-10 21:53:19  出处:快科技 作者:宪瑞 编辑:宪瑞     评论(0)点击可以复制本篇文章的标题和链接

快科技4月10日消息,南大广电在互动平台表示,该公司自主研发的高端ArF光刻胶已经通过了客户认证,并少量销售。

南大光电表示,公司已有两款ArF光刻胶产品分别在下游客户存储芯片50nm和逻辑芯片55nm技术节点上通过认证,并实现少量销售。

现阶段验证工作正在稳步推进,且针对同一客户开发了不同的产品,以满足客户的多样化需求。

此前该公司指出,公司已建成年产5吨ArF干式光刻胶生产线、年产20吨ArF浸没式光刻胶生产线及年产45吨的光刻胶配套高纯试剂生产线,具备ArF光刻胶及配套关键组分材料的生产能力,目前公司送样验证的产品均由该自建产线产出。

2022 年,南大光电公司实现营业收入158,123.07万元,同比增长60.62%;归属于上市公司股东的净利润18,673.26 万元,同比增37.07%;归属于上市公司股东的扣除非经常性损益后的净利润12,562.52万元,同比增长78.39%。

自主研发 南大光电国产高端光刻胶通过认证 已经用于50nm工艺

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