15nm电路线宽惠普NIL技术走出实验室 --快科技--科技改变未来

正文内容 评论（0）

15nm电路线宽惠普NIL技术走出实验室

2007-05-09 09:36:59 出处：快科技作者：ZNXF 编辑：ZNXF 评论(0)

位于美国Carlsbad的Nanolithosolutions公司获得了惠普实验室的纳米印刷光刻技术（nanoimprint lithography，NIL ）的授权，并有意用于纳米级电子产品的研发。纳米印刷光刻技术可以在基板上精确地冲压宽度小于50个原子的线路样本。

惠普实验室研究人员开发的NIL技术可以制造出线宽仅15纳米的电路板实验室原型。

Nanolithosolutions公司已经开发出基于惠普技术的一种工具，包含一种可以装进一个光罩对准器的模块组成。该模块用于在基板上生成线路和晶体管样本。这一工具简单便宜，并且将大量上市的光罩对准器转变为高分辨率NIL设备。

一旦NIL“母机”制成，就可以快速廉价地印制拷贝，就像生产CD和唱片一样。然后样本被填充金属生成线路。

“基于惠普在纳米印刷光刻领域的广泛研究，我们相信我们的工具可以可靠、重复性地探索生物芯片、光子芯片和许多其他应用领域，”Nanolithosolutions首席执行官Bo Pi说，“我们相信这是对全球的学术和商业用户来说都非常有用的工具，因为其费用仅仅是目前技术的十分之一。”

15nm电路线宽惠普NIL技术走出实验室