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发改委批准Intel大连建厂 工艺90nm
据报道，我国国家发展和改革委员会(发改委)在一份声明中称，Intel在中国建设处理器制造工厂的计划已经得到我国政府批准。
根据这一计划，Intel将投资25亿美元在我国大连兴建一座处理器芯片生产工厂(Fab)，每月最多可出产52000块12英寸(300毫米)晶圆，不过生产工艺为90纳米，并非此前传闻的65纳米。
除此之外就没有其他细节消息了，Intel发言人Chuck Mulloy也拒绝发表评论，不过熟悉这一计划的有关人士称，Intel有望在未来数周内正式宣布这一计划。
大连经济技术开发区的一位官员曾在一月份确认说，大连政府的确正在与Intel进行谈判，而且“不仅仅是(处理器)封装问题”。Intel在上海和成都的工厂就只负责处理器测试和封装，不参与生产。
无疑，这将对美国半导体产业产生大范围影响。美国政府历来对其高科技企业的技术输出严加管制，比如Intel在中国大陆地区的生产工艺就被限制在0.18微米，而此次大跨度升级到90纳米，可以想象其中会有多少曲折的故事，美国政府的管制也有可能从此会宽松很多。
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