ASML EUV光刻机更强了:薄膜透光率首超90%
2021-05-13 17:13:12 出处:快科技 作者:
万南 编辑:万南
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日前在韩国的一场半导体交流活动中,ASML韩国营销经理MyoungKuy Lee透露,公司将开始供应透光率超90%的薄膜,以提升EUV光刻机的效率。
据悉,这款薄膜是ASML与Teradyne(泰瑞达)联合研发,日本三井化学代工,已经通过了400瓦测试。
ASML 2016年首次开发出光罩薄膜,当时的透光率是78%。随后在2018年,薄膜透光率提升到80%,去年提升到85%。
薄膜用于保护光罩免受污染,单价2.6万美元左右(约合人民币16.78万元)。
另外,韩国企业FST、S&S Tech也都在紧张开发EUV光刻机所需的薄膜,FST此前预期上半年开始供应90%透光率的碳化硅薄膜。
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