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半导体核心技术:光刻胶材料成功实现国产
2018-05-09 16:57:18  出处:超能网  作者:孟宪瑞 编辑:万南   点击可以复制本篇文章的标题和链接
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最近因为中兴被美国政府制裁禁用美国电子芯片一事,全国上上下下普及了一遍半导体技术,也让很多人明白了国产厂商在半导体领域原来这么落后,不仅下游的芯片研发、设计不行,上游的半导体装备、材料更是严重依赖进口。

好在这种局面正在改变,芯片生产所需要的光刻机技术现在已经国产化了,国内公司攻克了另一项中国芯关键技术。

大家听多了光刻机、蚀刻机以及nm工艺这样的术语,对光刻胶还是十分陌生的。

买回来的硅圆片经过检查无破损后即可投入生产线上,前期可能还有各种成膜工艺,然后就进入到涂抹光刻胶环节。微影光刻工艺是一种图形影印技术,也是集成电路制造工艺中一项关键工艺。

首先将光刻胶(感光性树脂)滴在硅晶圆片上,通过高速旋转均匀涂抹成光刻胶薄膜,并施加以适当的温度固化光刻胶薄膜。

涂好了光刻胶才能进入光刻机进行曝光,让紫外线在光刻胶上生成掩膜中的电路图,必要的时候还要多重曝光,反复使用光刻胶,因此没有这一步电路是造不出来的。

半导体核心技术:光刻胶材料成功实现国产

光刻胶是一种对光线、温度、湿度十分敏感的材料,可以在光照后发生化学性质的改变,这是整个工艺的基础。

光刻胶有不同的类型,PMMA(聚甲基丙烯酸甲酯)、聚甲基戊二酰亚胺(PMGI)以及DNQ(酚醛树脂)等材料都可以做光刻胶。据有关资料显示,到2022年全球光刻胶市场市场价值将达到415亿美元,年复合增长率5.5%——算起来这个市场比光刻机产值还要大得多,毕竟光刻胶是耗材。

目前光刻胶市场上的参与者多是来自于美国、日本、韩国等国家,包括陶氏化学、杜邦、富士胶片、信越化学、住友化学、LG化学等等,中国公司在光刻胶领域也缺少核心技术。

今天科技日报报道称,圣泉公司历时26年研发的国产光刻胶——“光刻胶用线性酚醛树脂”国产化成功,打破了美国日本韩国等公司的垄断。

圣泉公司现在已经是亚洲最大的酚醛树脂公司,技术来源于1997年圣泉与英国海沃斯矿物及化学品有限公司达成的合作,引进了英国最先进的酚醛树脂生产技术,此后又引进了以原天津树脂厂总工李乃宁高工为首的一系列研发骨干。

2007年,与中科院化学所合作成立了“酚醛树脂技术研究中心”,引进并开发了包括火箭耐烧蚀材料在内的多个航天及军工项目;之后,建成了博士工作站,与多个院校开展了产学研合作;2011年,又引进了日本先进的环氧树脂生产技术,建成了国内最大的电子级特种环氧树脂车间。

只是这篇报道除了明确国产光刻胶是酚醛树脂类型之外,具体的性能还不得而知。不过从无到有实现突破之后,未来就有了发展的本钱了,国内很多企业都是这么做起来的,技术突破了就有参与竞争的机会,不然连同台竞技的资格都没有,何谈追赶甚至超越呢。

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