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Intel High-k技术提升R520工作频率?
2005-09-01 05:43:00  作者:P2MM 编辑:P2MM   点击可以复制本篇文章的标题和链接
 
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之前Tomshardware报道,R520工作频率将达到700MHz,并且采用完全重新设计的图形架构。现在,根据台湾消息来源透露,R520所有电路的栅氧极成份当中添加了AI2O3(三氧化二铝),AI2O3作为High-k材料,在高温下和Si之间有很好的稳定性,同时可以减少漏电,帮助维持Low-k层的稳定性,因此R520芯片的工作频率可以达到目前的700MHz。

目前从事90nm以下工艺当中AI2O3研究的只有Intel,因此有可能是Intel在ATi背后支招,将AI2O3 High-k技术转移给了TSMC。另外据传IBM很可能将自己的研发的Y2O3和La2O3High-k技术转移给nVIDIA后续90nm图形芯片(G71?)使用,未来图形芯片大战的背后将是Intel和IBM的新材料大战。

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