之前Tomshardware报道，R520工作频率将达到700MHz，并且采用完全重新设计的图形架构。现在，根据台湾消息来源透露，R520所有电路的栅氧极成份当中添加了AI2O3（三氧化二铝），AI2O3作为High-k材料，在高温下和Si之间有很好的稳定性，同时可以减少漏电，帮助维持Low-k层的稳定性，因此R520芯片的工作频率可以达到目前的700MHz。

目前从事90nm以下工艺当中AI2O3研究的只有Intel，因此有可能是Intel在ATi背后支招，将AI2O3 High-k技术转移给了TSMC。另外据传IBM很可能将自己的研发的Y2O3和La2O3High-k技术转移给nVIDIA后续90nm图形芯片（G71？）使用，未来图形芯片大战的背后将是Intel和IBM的新材料大战。