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Intel 45nm工艺进展良好
2005-08-18 23:35:00  作者:P2MM 编辑:P2MM   点击可以复制本篇文章的标题和链接
 
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我们之前报道Intel 45nm工艺芯片的代号是Penryn,现在,我们知道Intel 65nm工艺芯片接近于发布,因此Intel很有可能在秋季IDF大会上透露65nm之后45nm工艺的一些情况。目前根据多方面得到的消息,Intel 45nm工艺的一些关于漏电方面的问题已经得到解决,芯片的良率大大提升,Intel在45nm工艺上已经领先IBM和AMD。

另外,根据我们获得消息,Intel 65nm工艺在漏电问题上大大好于90nm工艺。但是,65nm工艺的良率并不如45nm工艺来得高。65nm 双核心 超低电压Merom处理器功耗有9w,65nm双核心Yonah处理器的功耗将降低到5.5w,45nmPenryn的功耗将进一步降低。Intel在秋季IDF大会上将为我们带来45nm工艺的好消息。

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