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NVIDIA 28nm开普勒成功流片 或明年初发布
多个消息来源确认,代号“开普勒”(Kepler)的NVIDIA下一代GPU芯片已经成功流片,台积电28nm工艺再次立功。
首次采用新工艺且变化巨大的高端GPU芯片往往会在初期面临很多困难,不过据说NVIDIA的开普勒情况良好,没有遇到任何重大问题。当然了,需要做的工作肯定还是非常多的,比如说控制漏电率、完善性能、修复bug等等。
乐观的预计是基于开普勒的下代显卡能赶在今年第四季度发布并上市,不过多个消息来源都认为这种可能性非常低,因为台积电还需要更多时间让28nm工艺进一步成熟起来,开普勒最早也要明年初问世。目前的GPU都已经在40nm工艺上碰到了“性能墙”,基本失去了继续提升的空间,新工艺势在必行。
相比之下,AMD方面倒是屡次强调说同样使用台积电28nm工艺的下代南方群岛会在今年底如期推出。尽管如此,NVIDIA这一次的步伐也是相当快的,毕竟以往在新工艺过渡方面都要落后对手一个时代。
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